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微細(xì)加工技術(shù)雜志投稿要求是什么?

《微細(xì)加工技術(shù)》雜志投稿要求,如下:

(1)題目:應(yīng)反映文章主要內(nèi)容,一般不用副標(biāo)題,不超過(guò)20個(gè)漢字,避免使用非公知的外文縮寫。

(2)本刊將對(duì)一稿兩投者表示公開(kāi)譴責(zé),通知作者單位,并2年內(nèi)拒絕該文第一作者的任何來(lái)稿。

(3)來(lái)稿一經(jīng)采用,因人力所限一般不退稿,請(qǐng)作者自留底稿,文稿署名自便,但來(lái)稿請(qǐng)注明作者真實(shí)姓名、單位、職稱、通訊地址、郵政編碼及電話,以便聯(lián)系。

(4)注釋時(shí),必須將其作者姓名、文獻(xiàn)名、出版社、出版時(shí)間、所屬頁(yè)碼一并注出。

(5)參考文獻(xiàn):作者年份制,正文中以(作者,年份)形式置于對(duì)應(yīng)處;詳細(xì)內(nèi)容采用文后注形式,中文在前、英文在后,以音序排序,具體著錄格式見(jiàn)附件。

微細(xì)加工技術(shù)雜志發(fā)文分析

微細(xì)加工技術(shù)主要機(jī)構(gòu)發(fā)文分析

機(jī)構(gòu)名稱 發(fā)文量 主要研究主題
中國(guó)科學(xué)院 192 光刻;電子束曝光;曝光機(jī);電子束曝光機(jī);掩模
上海交通大學(xué) 129 微機(jī)電系統(tǒng);電系統(tǒng);機(jī)電系統(tǒng);MEMS;刻蝕
清華大學(xué) 60 微細(xì);光刻;微細(xì)加工;離子束;聚焦離子束
中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué) 47 刻蝕;離子束;離子束刻蝕;光刻;衍射
電子工業(yè)部 46 離子注入;注入機(jī);離子注入機(jī);半導(dǎo)體;電路
中國(guó)科學(xué)院微電子研究所 38 光刻;掩模;X射線光刻;電子束曝光;分辨率
中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與... 34 光柵;MEMS;刻蝕;光刻;傳感
山東大學(xué) 29 電子束;電子束曝光;曝光機(jī);電子束光刻;電子束曝光機(jī)
山東工業(yè)大學(xué) 28 電子束曝光;曝光機(jī);電子束曝光機(jī);電子束;電路
華中理工大學(xué) 26 刻蝕;濺射;半導(dǎo)體;等離子體;離子束

《微細(xì)加工技術(shù)》雜志是由中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第48研究所主辦的雙月刊,審稿周期預(yù)計(jì)為3-6個(gè)月。該雜志的欄目設(shè)置豐富多樣,涵蓋綜述、電子束技術(shù)、離子束技術(shù)、光子束技術(shù)、薄膜技術(shù)、微機(jī)械加工技術(shù)、納米技術(shù)等。

該雜志為學(xué)者們提供了一個(gè)交流學(xué)術(shù)成果和經(jīng)驗(yàn)的平臺(tái),發(fā)表的文章具有較高的學(xué)術(shù)水平和實(shí)踐價(jià)值,為讀者提供更多的實(shí)踐案例和行業(yè)信息,得到了廣大讀者的廣泛關(guān)注和引用。

微細(xì)加工技術(shù)雜志數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)

微細(xì)加工技術(shù)主要引證文獻(xiàn)期刊分析
微細(xì)加工技術(shù)雜志

微細(xì)加工技術(shù)雜志

主管單位:信息產(chǎn)業(yè)部

主辦單位:中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第48研究所

雙月刊,正版雜志,提供發(fā)票

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