《Plasma Science & Technology》雜志影響因子:1.6。
期刊Plasma Science & Technology近年評價數(shù)據(jù)趨勢圖
期刊影響因子趨勢圖
以下是一些常見的影響因子查詢入口:
(1)Web of Science:是查詢SCI期刊影響因子的權威平臺,收錄全球高質量學術期刊,提供詳細的期刊引證報告,包括影響因子、分區(qū)、被引頻次等關鍵指標。
(2)?Journal Citation Reports (JCR):JCR是科睿唯安旗下的一個網(wǎng)站,提供了期刊影響因子、引用數(shù)據(jù)和相關指標。用戶可以在該網(wǎng)站上查找特定期刊的影響因子信息。
(3)中科院SCI期刊分區(qū)表:提供中科院分區(qū)的期刊數(shù)據(jù)查詢,包括影響因子和分區(qū)信息。
《Plasma Science & Technology》雜志是由IOP Publishing Ltd.出版社主辦的一本以物理-物理:流體與等離子體為研究方向,OA非開放(Not Open Access)的國際優(yōu)秀期刊。
該雜志出版語言為English,創(chuàng)刊于1999年。自創(chuàng)刊以來,已被SCIE(科學引文索引擴展板)等國內外知名檢索系統(tǒng)收錄。該雜志發(fā)表了高質量的論文,重點介紹了PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS在分析和實踐中的理論、研究和應用。
?學術地位:在JCR分區(qū)中位列Q3區(qū),中科院分區(qū)為物理與天體物理大類3區(qū),PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS物理:流體與等離子體小類4區(qū)。
期刊發(fā)文分析
期刊引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計
期刊引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
PHYS PLASMAS | 384 |
PLASMA SCI TECHNOL | 312 |
J PHYS D APPL PHYS | 243 |
SPECTROCHIM ACTA B | 241 |
NUCL FUSION | 204 |
IEEE T PLASMA SCI | 172 |
PLASMA SOURCES SCI T | 148 |
APPL PHYS LETT | 126 |
PHYS REV LETT | 123 |
J APPL PHYS | 120 |
期刊被引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計
期刊被引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
PLASMA SCI TECHNOL | 312 |
IEEE T PLASMA SCI | 125 |
PHYS PLASMAS | 93 |
NUCL FUSION | 76 |
FUSION ENG DES | 63 |
AIP ADV | 51 |
J PHYS D APPL PHYS | 43 |
PLASMA CHEM PLASMA P | 37 |
J ANAL ATOM SPECTROM | 35 |
REV SCI INSTRUM | 28 |
文章引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計
文章引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
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