《電子工業(yè)專用設(shè)備》雜志投稿要求，如下：
（1）要求論文標(biāo)題簡明、醒目，論文格式規(guī)范，論文自帶中/英文摘要（200字左右）及3~5個關(guān)鍵詞。
（2）投稿論文后，編輯部收到稿件后一個月內(nèi)通知作者初審結(jié)果，在此期間請勿一稿多投。
（3）正文應(yīng)條理清晰，層次分明。文中插圖應(yīng)比例適當(dāng)、清楚美觀，標(biāo)明圖序與圖題；表格應(yīng)結(jié)構(gòu)簡潔，盡量采用“三線表”，必要時可添加輔助線，要有表序與表題。
（4）本刊統(tǒng)一采用頁底腳注的形式，每頁注釋重新編號，注釋序號用①，②……標(biāo)識。注碼置于引文結(jié)束的標(biāo)點符號之后右上方。
（5）計量和計數(shù)單位前需使用阿拉伯?dāng)?shù)字，外文字母、上下角標(biāo)、黑白體、大小寫應(yīng)準(zhǔn)確表達(dá)，對易混淆的請用鉛筆標(biāo)注。
電子工業(yè)專用設(shè)備雜志發(fā)文分析
電子工業(yè)專用設(shè)備主要機構(gòu)發(fā)文分析
| 機構(gòu)名稱 | 發(fā)文量 | 主要研究主題 |
| 中國電子科技集團公司第四十五... | 646 | 半導(dǎo)體；光刻；晶圓；電機；拋光 |
| 中國電子科技集團公司第二研究... | 229 | 真空；電池；低溫共燒陶瓷；太陽能；封裝 |
| 中國電子科技集團公司第四十八... | 168 | 電池；太陽能電池；太陽能；均勻性；離子注入 |
| 中國電子科技集團公司第四十六... | 118 | 單晶；硅單晶；硅片；晶片；區(qū)熔 |
| 電子工業(yè)部 | 115 | 半導(dǎo)體；光刻；曝光機；切片；切片機 |
| 北京中電科電子裝備有限公司 | 92 | 晶圓；劃片；劃片機；鍵合；封裝 |
| 中華人民共和國工業(yè)和信息化部 | 75 | 光刻；電路；電子專用設(shè)備；集成電路；半導(dǎo)體 |
| 中國電子科技集團公司 | 68 | 電路；集成電路；化學(xué)機械拋光；機械拋光；晶片 |
| 中國電子科技集團第十三研究所 | 66 | 光刻；刻蝕；激光；光刻機；投影光刻 |
| 中國科學(xué)院 | 54 | 光刻；光刻機；電路；半導(dǎo)體；電子束曝光 |
《電子工業(yè)專用設(shè)備》雜志是由中國電子科技集團公司第四十五研究所主辦的雙月刊，審稿周期預(yù)計為1個月內(nèi)。該雜志的欄目設(shè)置豐富多樣，涵蓋先進封裝技術(shù)與設(shè)備、半導(dǎo)體制造工藝與設(shè)備、電子專用設(shè)備研究、專用設(shè)備維護與保養(yǎng)等。
該雜志為學(xué)者們提供了一個交流學(xué)術(shù)成果和經(jīng)驗的平臺，發(fā)表的文章具有較高的學(xué)術(shù)水平和實踐價值，為讀者提供更多的實踐案例和行業(yè)信息，得到了廣大讀者的廣泛關(guān)注和引用。
