Journal Of Microelectromechanical Systems(微機(jī)電系統(tǒng)雜志雜志)是由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版社主辦的一本以工程技術(shù)-工程:電子與電氣為研究方向,OA非開放(Not Open Access)的國際優(yōu)秀期刊。旨在幫助發(fā)展和壯大工程技術(shù)及相關(guān)學(xué)科的各個方面。該期刊接受多種不同類型的文章。本刊出版語言為English,創(chuàng)刊于1992年。自創(chuàng)刊以來,已被SCIE(科學(xué)引文索引擴(kuò)展板)等國內(nèi)外知名檢索系統(tǒng)收錄。該雜志發(fā)表了高質(zhì)量的論文,重點介紹了ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC在分析和實踐中的理論、研究和應(yīng)用。
ISSN:1057-7157
E-ISSN:1941-0158
出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
出版語言:English
出版地區(qū):UNITED STATES
出版周期:Bimonthly
是否OA:未開放
是否預(yù)警:否
創(chuàng)刊時間:1992
年發(fā)文量:78
影響因子:2.5
研究類文章占比:100.00%
Gold OA文章占比:20.45%
H-index:131
出版國人文章占比:0.15
出版撤稿文章占比:
開源占比:0.22...
文章自引率:0.0740...
《Journal Of Microelectromechanical Systems》是一份國際優(yōu)秀期刊,為工程技術(shù)領(lǐng)域的研究人員和從業(yè)者提供科學(xué)論壇。該期刊涵蓋了工程技術(shù)及相關(guān)學(xué)科的所有方面,包括基礎(chǔ)和應(yīng)用研究,使讀者能夠獲得來自世界各地的最新、前沿的研究。該期刊歡迎涉及工程技術(shù)領(lǐng)域的原創(chuàng)理論、方法、技術(shù)和重要應(yīng)用的稿件,并刊載了涉及工程技術(shù)領(lǐng)域的相關(guān)欄目:綜述、論著、述評、論著摘要等。所有投稿都有望達(dá)到高標(biāo)準(zhǔn)的科學(xué)嚴(yán)謹(jǐn)性,并為推進(jìn)該領(lǐng)域的科研知識傳播做出貢獻(xiàn)。該期刊最新CiteScore值為6.2,最新影響因子為2.5,SJR指數(shù)為0.744,SNIP指數(shù)為1.187。
CiteScore指標(biāo)的應(yīng)用非常廣泛,以期刊的引用次數(shù)為基礎(chǔ)評估期刊的影響力。它可以反映期刊的學(xué)術(shù)影響力和學(xué)術(shù)水平,是學(xué)術(shù)界常用的期刊評價指標(biāo)之一。
CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 排名 | ||||||||||||
6.2 | 0.744 | 1.187 |
|
CiteScore是由Elsevier公司開發(fā)的一種用于衡量科學(xué)期刊影響力的指標(biāo),以期刊的引用次數(shù)為基礎(chǔ)評估期刊的影響力。這個指標(biāo)是由Scopus數(shù)據(jù)庫支持,以四年為一個時段,連續(xù)評估期刊和叢書的引文影響力的。具體來說,CiteScore是計算某期刊連續(xù)三年發(fā)表的論文在第四年度的篇均引用次數(shù)。CiteScore和影響因子(IF)有所不同。例如,在影響因子的計算中,分子是來自所有文章的引用次數(shù),包括編輯述評、讀者來信、更正信息和新聞等非研究性文章,而分母則不包括這些非研究性文章。然而,在CiteScore的計算中,分子和分母都包括這些非研究性文章。因此,如果這些非研究性文章比較多,由于分母較大,相較于影響因子,CiteScore計算出來的分?jǐn)?shù)可能會偏低。此外,CiteScore的引用數(shù)據(jù)來自Scopus數(shù)據(jù)庫中的22000多個期刊,比影響因子來自Web of Science數(shù)據(jù)庫的11000多個期刊多了一倍。
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 165 / 352 |
53.3% |
學(xué)科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q2 | 28 / 76 |
63.8% |
學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 99 / 140 |
29.6% |
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 87 / 179 |
51.7% |
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 168 / 354 |
52.68% |
學(xué)科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q2 | 37 / 76 |
51.97% |
學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 73 / 140 |
48.21% |
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 83 / 179 |
53.91% |
WOS(JCR)分區(qū)是由科睿唯安公司提出的一種新的期刊評價指標(biāo),分區(qū)越靠前一般代表期刊質(zhì)量越好,發(fā)文難度也越高。這種分級體系有助于科研人員快速了解各個期刊的影響力和地位。JCR將所有期刊按照各個學(xué)科領(lǐng)域進(jìn)行分類,然后以影響因子為標(biāo)準(zhǔn)平均分為四個等級:Q1、Q2、Q3和Q4區(qū)。這種設(shè)計使得科研人員可以更容易地進(jìn)行跨學(xué)科比較。
中科院SCI期刊分區(qū)是由中國科學(xué)院國家科學(xué)圖書館制定的。將所有的期刊按照學(xué)科進(jìn)行分類,以影響因子為標(biāo)準(zhǔn)平均分為四個等級。分區(qū)越靠前一般代表期刊質(zhì)量越好,發(fā)文難度也越高。
2023年12月升級版
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學(xué)科 | 小類學(xué)科 |
否 | 否 | 工程技術(shù) 3區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣
INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
儀器儀表
PHYSICS, APPLIED
物理:應(yīng)用
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技
3區(qū)
3區(qū)
3區(qū)
4區(qū)
|
2022年12月升級版
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學(xué)科 | 小類學(xué)科 |
否 | 否 | 工程技術(shù) 3區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣
INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
儀器儀表
PHYSICS, APPLIED
物理:應(yīng)用
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技
3區(qū)
3區(qū)
3區(qū)
4區(qū)
|
2021年12月舊的升級版
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學(xué)科 | 小類學(xué)科 |
否 | 否 | 工程技術(shù) 3區(qū) |
INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
儀器儀表
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技
PHYSICS, APPLIED
物理:應(yīng)用
2區(qū)
3區(qū)
3區(qū)
3區(qū)
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2021年12月基礎(chǔ)版
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學(xué)科 | 小類學(xué)科 |
否 | 否 | 工程技術(shù) 3區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣
INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
儀器儀表
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技
PHYSICS, APPLIED
物理:應(yīng)用
4區(qū)
3區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
|
2021年12月升級版
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學(xué)科 | 小類學(xué)科 |
否 | 否 | 工程技術(shù) 3區(qū) |
INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
儀器儀表
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技
PHYSICS, APPLIED
物理:應(yīng)用
2區(qū)
3區(qū)
3區(qū)
3區(qū)
|
2020年12月舊的升級版
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學(xué)科 | 小類學(xué)科 |
否 | 否 | 工程技術(shù) 3區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣
INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
儀器儀表
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技
PHYSICS, APPLIED
物理:應(yīng)用
3區(qū)
3區(qū)
3區(qū)
3區(qū)
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Journal Of Microelectromechanical Systems(中文譯名微機(jī)電系統(tǒng)雜志雜志)是一本專注于工程技術(shù),工程:電子與電氣領(lǐng)域的國際期刊,致力于為全球ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的研究者提供一個高質(zhì)量的學(xué)術(shù)交流平臺。該期刊ISSN:1057-7157,E-ISSN:1941-0158,出版周期Bimonthly。在中科院的大類學(xué)科分類中,該期刊屬于工程技術(shù)范疇,而在小類學(xué)科中,它主要涵蓋了ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC這一領(lǐng)域。編輯部誠摯邀請廣大工程技術(shù)領(lǐng)域的專家學(xué)者投稿,內(nèi)容可以涵蓋工程技術(shù)的綜合研究、實踐應(yīng)用、創(chuàng)新成果等方面。同時,我們也歡迎學(xué)者們就相關(guān)主題進(jìn)行簡短的交流和評論,以促進(jìn)學(xué)術(shù)界的互動與合作。為了保證期刊的質(zhì)量,審稿周期預(yù)計為 約3.0個月 。在此期間,編輯部將對所有投稿進(jìn)行嚴(yán)格的同行評審,以確保發(fā)表的文章具有較高的學(xué)術(shù)價值和實用性。
值得一提的是,Journal Of Microelectromechanical Systems近期并未被列入國際期刊預(yù)警名單,這意味著其學(xué)術(shù)質(zhì)量和影響力得到了廣泛認(rèn)可。該期刊為工程技術(shù)領(lǐng)域的學(xué)者提供了一個優(yōu)質(zhì)的學(xué)術(shù)交流平臺。因此,關(guān)注并投稿至Journal Of Microelectromechanical Systems無疑是一個明智的選擇,這將有助于提升您的學(xué)術(shù)聲譽(yù)和研究成果的傳播。
多年來,我們專注于期刊投稿服務(wù),能夠為您分析推薦目標(biāo)期刊。憑借多年來豐富的投稿經(jīng)驗和專業(yè)指導(dǎo),我們有效助力提升錄用幾率。點擊以下按鈕即可免費咨詢。
投稿咨詢機(jī)構(gòu) | 發(fā)文量 |
UNIVERSITY OF CALIFORNIA SYSTEM | 23 |
STATE UNIVERSITY SYSTEM OF FLORIDA | 19 |
STANFORD UNIVERSITY | 17 |
CARNEGIE MELLON UNIVERSITY | 14 |
SOUTHEAST UNIVERSITY - CHINA | 14 |
UNIVERSITY OF ILLINOIS SYSTEM | 14 |
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES | 12 |
UNIVERSITY SYSTEM OF MARYLAND | 12 |
UNIVERSITY OF MICHIGAN SYSTEM | 10 |
UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM | 10 |
國家 / 地區(qū) | 發(fā)文量 |
USA | 227 |
CHINA MAINLAND | 82 |
Canada | 28 |
GERMANY (FED REP GER) | 24 |
India | 18 |
Japan | 18 |
Italy | 15 |
South Korea | 13 |
Taiwan | 13 |
Saudi Arabia | 11 |
期刊引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
J MICROELECTROMECH S | 359 |
J MICROMECH MICROENG | 190 |
SENSOR ACTUAT A-PHYS | 163 |
APPL PHYS LETT | 109 |
IEEE SENS J | 66 |
J APPL PHYS | 58 |
IEEE T ULTRASON FERR | 56 |
LAB CHIP | 52 |
SENSOR ACTUAT B-CHEM | 51 |
NANO LETT | 41 |
期刊被引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
J MICROELECTROMECH S | 359 |
MICROMACHINES-BASEL | 298 |
SENSOR ACTUAT A-PHYS | 287 |
J MICROMECH MICROENG | 219 |
IEEE SENS J | 206 |
MICROSYST TECHNOL | 193 |
SENSORS-BASEL | 190 |
IEEE T ULTRASON FERR | 93 |
APPL PHYS LETT | 92 |
SCI REP-UK | 84 |
文章引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
Review of Micro Thermoelectric Generator | 22 |
Investigation of Multimodal Electret-Based... | 22 |
Accurate Extraction of Large Electromechan... | 15 |
4.5 GHz Lithium Niobate MEMS Filters With ... | 11 |
Monolayer MoS2 Strained to 1.3% With a Mic... | 9 |
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Fused Silica Micro Shell Resonator With T-... | 8 |
MEMS-Based Thermoelectric-Photoelectric In... | 8 |
若用戶需要出版服務(wù),請聯(lián)系出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。