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Materials Science In Semiconductor Processing

Materials Science In Semiconductor Processing SCIE

半導(dǎo)體加工中的材料科學(xué)  國(guó)際簡(jiǎn)稱:MAT SCI SEMICON PROC

Materials Science In Semiconductor Processing(半導(dǎo)體加工中的材料科學(xué)雜志)是由Elsevier Ltd出版社主辦的一本以工程技術(shù)-材料科學(xué):綜合為研究方向,OA非開(kāi)放(Not Open Access)的國(guó)際優(yōu)秀期刊。旨在幫助發(fā)展和壯大工程技術(shù)及相關(guān)學(xué)科的各個(gè)方面。該期刊接受多種不同類型的文章。本刊出版語(yǔ)言為English,創(chuàng)刊于1998年。自創(chuàng)刊以來(lái),已被SCIE(科學(xué)引文索引擴(kuò)展板)等國(guó)內(nèi)外知名檢索系統(tǒng)收錄。該雜志發(fā)表了高質(zhì)量的論文,重點(diǎn)介紹了ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC在分析和實(shí)踐中的理論、研究和應(yīng)用。

雜志介紹

  • ISSN:1369-8001

    E-ISSN:1873-4081

    出版商:Elsevier Ltd

  • 出版語(yǔ)言:English

    出版地區(qū):ENGLAND

    出版周期:Bimonthly

  • 是否OA:未開(kāi)放

    是否預(yù)警:否

    創(chuàng)刊時(shí)間:1998

  • 年發(fā)文量:635

    影響因子:4.2

    研究類文章占比:96.22%

    Gold OA文章占比:5.21%

    H-index:49

    出版國(guó)人文章占比:0.21

    出版撤稿文章占比:

    開(kāi)源占比:0.01...

    文章自引率:0.0487...

《Materials Science In Semiconductor Processing》是一份國(guó)際優(yōu)秀期刊,為工程技術(shù)領(lǐng)域的研究人員和從業(yè)者提供科學(xué)論壇。該期刊涵蓋了工程技術(shù)及相關(guān)學(xué)科的所有方面,包括基礎(chǔ)和應(yīng)用研究,使讀者能夠獲得來(lái)自世界各地的最新、前沿的研究。該期刊歡迎涉及工程技術(shù)領(lǐng)域的原創(chuàng)理論、方法、技術(shù)和重要應(yīng)用的稿件,并刊載了涉及工程技術(shù)領(lǐng)域的相關(guān)欄目:綜述、論著、述評(píng)、論著摘要等。所有投稿都有望達(dá)到高標(biāo)準(zhǔn)的科學(xué)嚴(yán)謹(jǐn)性,并為推進(jìn)該領(lǐng)域的科研知識(shí)傳播做出貢獻(xiàn)。該期刊最新CiteScore值為8,最新影響因子為4.2,SJR指數(shù)為0.732,SNIP指數(shù)為0.992。

期刊Materials Science In Semiconductor Processing近年評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)趨勢(shì)圖

中科院SCI期刊分區(qū)大類分區(qū)趨勢(shì)圖
期刊自引率趨勢(shì)圖
期刊CiteScore趨勢(shì)圖
期刊影響因子趨勢(shì)圖
期刊年發(fā)文量趨勢(shì)圖

期刊CiteScore指數(shù)統(tǒng)計(jì)(2024年最新版)

CiteScore指標(biāo)的應(yīng)用非常廣泛,以期刊的引用次數(shù)為基礎(chǔ)評(píng)估期刊的影響力。它可以反映期刊的學(xué)術(shù)影響力和學(xué)術(shù)水平,是學(xué)術(shù)界常用的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo)之一。

CiteScore SJR SNIP CiteScore 排名
8 0.732 0.992
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Mechanical Engineering Q1 87 / 672

87%

大類:Engineering 小類:Condensed Matter Physics Q1 59 / 434

86%

大類:Engineering 小類:Mechanics of Materials Q1 60 / 398

85%

大類:Engineering 小類:General Materials Science Q1 100 / 463

78%

CiteScore是由Elsevier公司開(kāi)發(fā)的一種用于衡量科學(xué)期刊影響力的指標(biāo),以期刊的引用次數(shù)為基礎(chǔ)評(píng)估期刊的影響力。這個(gè)指標(biāo)是由Scopus數(shù)據(jù)庫(kù)支持,以四年為一個(gè)時(shí)段,連續(xù)評(píng)估期刊和叢書的引文影響力的。具體來(lái)說(shuō),CiteScore是計(jì)算某期刊連續(xù)三年發(fā)表的論文在第四年度的篇均引用次數(shù)。CiteScore和影響因子(IF)有所不同。例如,在影響因子的計(jì)算中,分子是來(lái)自所有文章的引用次數(shù),包括編輯述評(píng)、讀者來(lái)信、更正信息和新聞等非研究性文章,而分母則不包括這些非研究性文章。然而,在CiteScore的計(jì)算中,分子和分母都包括這些非研究性文章。因此,如果這些非研究性文章比較多,由于分母較大,相較于影響因子,CiteScore計(jì)算出來(lái)的分?jǐn)?shù)可能會(huì)偏低。此外,CiteScore的引用數(shù)據(jù)來(lái)自Scopus數(shù)據(jù)庫(kù)中的22000多個(gè)期刊,比影響因子來(lái)自Web of Science數(shù)據(jù)庫(kù)的11000多個(gè)期刊多了一倍。

期刊WOS(JCR)分區(qū)(2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 89 / 352

74.9%

學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q2 158 / 438

64%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 51 / 179

71.8%

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q2 25 / 79

69%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 113 / 354

68.22%

學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q2 125 / 438

71.58%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 47 / 179

74.02%

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q1 19 / 79

76.58%

WOS(JCR)分區(qū)是由科睿唯安公司提出的一種新的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo),分區(qū)越靠前一般代表期刊質(zhì)量越好,發(fā)文難度也越高。這種分級(jí)體系有助于科研人員快速了解各個(gè)期刊的影響力和地位。JCR將所有期刊按照各個(gè)學(xué)科領(lǐng)域進(jìn)行分類,然后以影響因子為標(biāo)準(zhǔn)平均分為四個(gè)等級(jí):Q1、Q2、Q3和Q4區(qū)。這種設(shè)計(jì)使得科研人員可以更容易地進(jìn)行跨學(xué)科比較。

中科院SCI期刊分區(qū)

中科院SCI期刊分區(qū)是由中國(guó)科學(xué)院國(guó)家科學(xué)圖書館制定的。將所有的期刊按照學(xué)科進(jìn)行分類,以影響因子為標(biāo)準(zhǔn)平均分為四個(gè)等級(jí)。分區(qū)越靠前一般代表期刊質(zhì)量越好,發(fā)文難度也越高。

2023年12月升級(jí)版

Top期刊 綜述期刊 大類學(xué)科 小類學(xué)科
工程技術(shù) 3區(qū)
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理
3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

2022年12月升級(jí)版

Top期刊 綜述期刊 大類學(xué)科 小類學(xué)科
工程技術(shù) 3區(qū)
PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合
2區(qū) 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

2021年12月舊的升級(jí)版

Top期刊 綜述期刊 大類學(xué)科 小類學(xué)科
工程技術(shù) 3區(qū)
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理
3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

2021年12月基礎(chǔ)版

Top期刊 綜述期刊 大類學(xué)科 小類學(xué)科
工程技術(shù) 3區(qū)
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理
3區(qū) 4區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

2021年12月升級(jí)版

Top期刊 綜述期刊 大類學(xué)科 小類學(xué)科
工程技術(shù) 3區(qū)
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理
3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

2020年12月舊的升級(jí)版

Top期刊 綜述期刊 大類學(xué)科 小類學(xué)科
工程技術(shù) 3區(qū)
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理
3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

投稿提示

Materials Science In Semiconductor Processing(中文譯名半導(dǎo)體加工中的材料科學(xué)雜志)是一本專注于工程技術(shù),材料科學(xué):綜合領(lǐng)域的國(guó)際期刊,致力于為全球ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的研究者提供一個(gè)高質(zhì)量的學(xué)術(shù)交流平臺(tái)。該期刊ISSN:1369-8001,E-ISSN:1873-4081,出版周期Bimonthly。在中科院的大類學(xué)科分類中,該期刊屬于工程技術(shù)范疇,而在小類學(xué)科中,它主要涵蓋了ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC這一領(lǐng)域。編輯部誠(chéng)摯邀請(qǐng)廣大工程技術(shù)領(lǐng)域的專家學(xué)者投稿,內(nèi)容可以涵蓋工程技術(shù)的綜合研究、實(shí)踐應(yīng)用、創(chuàng)新成果等方面。同時(shí),我們也歡迎學(xué)者們就相關(guān)主題進(jìn)行簡(jiǎn)短的交流和評(píng)論,以促進(jìn)學(xué)術(shù)界的互動(dòng)與合作。為了保證期刊的質(zhì)量,審稿周期預(yù)計(jì)為 約1.7個(gè)月 約3.7周。在此期間,編輯部將對(duì)所有投稿進(jìn)行嚴(yán)格的同行評(píng)審,以確保發(fā)表的文章具有較高的學(xué)術(shù)價(jià)值和實(shí)用性。

值得一提的是,Materials Science In Semiconductor Processing近期并未被列入國(guó)際期刊預(yù)警名單,這意味著其學(xué)術(shù)質(zhì)量和影響力得到了廣泛認(rèn)可。該期刊為工程技術(shù)領(lǐng)域的學(xué)者提供了一個(gè)優(yōu)質(zhì)的學(xué)術(shù)交流平臺(tái)。因此,關(guān)注并投稿至Materials Science In Semiconductor Processing無(wú)疑是一個(gè)明智的選擇,這將有助于提升您的學(xué)術(shù)聲譽(yù)和研究成果的傳播。

多年來(lái),我們專注于期刊投稿服務(wù),能夠?yàn)槟治鐾扑]目標(biāo)期刊。憑借多年來(lái)豐富的投稿經(jīng)驗(yàn)和專業(yè)指導(dǎo),我們有效助力提升錄用幾率。點(diǎn)擊以下按鈕即可免費(fèi)咨詢。

投稿咨詢

期刊發(fā)文分析

國(guó)家 / 地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計(jì)
國(guó)家 / 地區(qū) 發(fā)文量
CHINA MAINLAND 376
India 309
South Korea 97
Turkey 76
Mexico 73
Japan 71
Iran 65
USA 63
Saudi Arabia 55
Italy 48
期刊引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計(jì)
期刊引用數(shù)據(jù) 引用次數(shù)
APPL PHYS LETT 835
J APPL PHYS 647
J ALLOY COMPD 478
APPL SURF SCI 451
MAT SCI SEMICON PROC 380
SENSOR ACTUAT B-CHEM 366
RSC ADV 326
THIN SOLID FILMS 318
PHYS REV B 289
J PHYS CHEM C 286
期刊被引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計(jì)
期刊被引用數(shù)據(jù) 引用次數(shù)
J MATER SCI-MATER EL 470
MATER RES EXPRESS 446
MAT SCI SEMICON PROC 380
J ALLOY COMPD 269
CERAM INT 226
APPL SURF SCI 203
J ELECTRON MATER 130
APPL PHYS A-MATER 117
OPTIK 112
RSC ADV 106
文章引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計(jì)
文章引用數(shù)據(jù) 引用次數(shù)
Recent advances in perovskite oxides for a... 42
Enhanced photocatalytic performance of vis... 36
Photocatalytic, Fenton and photo-Fenton de... 31
Photocatalytic degradation of methylene bl... 31
Recent advances in diamond power semicondu... 25
Recent progress in the growth of beta-Ga2O... 23
Materials and processing issues in vertica... 21
Review of technology for normally-off HEMT... 21
Improving microstructural properties and m... 20
Facilely synthesized Cu:PbS nanoparticles ... 20

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